集微网消息，1月12日晚间，南大光电发布了重要的公告，公司与宁波经济技术开发区管理委员会签订《投资协议书》，公司拟在宁波开发区投资建设高端集成电路制造用193nm光刻胶材料以及配套关键材料研发及生产项目，项目总用地面积约86亩，其中一期总投资预计约9.6亿元。

  对于签订此次投资协议的原因，南大光电表示，是为了抢抓机遇，加快项目进度，落实公司长期发展的策略，利用自身优势，推动中国高端光刻胶产业的快速发展。

  目前整个PCB电路板市场缺货涨价，且已旷日持久。业内人士在接受集微网采访时表示，目前PCB市场自去年以来，受多方原因，整体涨价幅度在20-30%，其中光刻胶材料也在同步涨价，尤其是高端光刻胶材料因PCB工艺的升级，所需更大。

  南大光电表示，公司拟实施高端集成电路制造用 193nm 光刻胶材料以及配套关键材料研发及生产项目，目前处于研发阶段。而一旦此次签署的投建项目落地，达产后年产值预计约 3.75 亿元，将对南大光电的产品升级和市场营收带来直接的效率。

  4月13日，南大光电在接受机构调研时表示，公司研发的ArF光刻胶主要定位于90nm-28nm 集成电路的制程应用，公司ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的验证，目前多款产品正在多家客户一起进行认证。 南大光电称，通过验证的一家客户从去年 8 月份以来，一直正常购买公司光刻胶产品。因为是客制化产品，暂未形成规模销售。ArF光刻胶按照每个客户订单情况做生产销售，目前项目延期至2022年底，公司将通过统筹协调全力推进，力争早日完成该项目建设。 公司ArF光刻胶产品第一步是要完成替代进口， 进口替代任务完成后，再进行品质提升。目前公司 ArF 光刻胶是从 核心原材料开始做研发，完全解决卡脖子问题。 在其他

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